나노구조 반도체 코팅재 개발

나노구조 반도체 코팅재 개발

이영표 기자
입력 2006-06-23 00:00
수정 2006-06-23 00:00
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KIST 석현광박사 연구팀

한국과학기술연구원(KIST) 석현광 박사 연구팀은 22일 반도체 제조용 핵심장비에 적용할 수 있는 새로운 나노구조 신소재 세라믹 코팅재를 개발하는 데 성공했다고 밝혔다.

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KIST 석현광박사
KIST 석현광박사
연구팀은 개발된 나노구조 코팅재가 현재 반도체 제조장비에 널리 사용되는 기존 세라믹 코팅재보다 긁힘 저항성이 10배 정도 향상되고 균열 등 결함을 크게 줄여 수명이 대폭 향상됐다고 설명했다.

특히 반도체 핵심 장비 및 부품의 국산화에 크게 기여해 현재 약 300억∼400억원 규모의 반도체장비 코팅 시장 규모가 1000억원 이상으로 증가할 것으로 기대했다. 석 박사는 “섭씨 1만 5000도의 플라스마를 이용해 소재를 순간적으로 녹인 다음 부품 표면에 분무하는 방법으로 나노구조 코팅층 형성이 가능한 세라믹 신물질을 개발했다.”고 말했다.

연구팀은 이번 연구 성과를 통해 국내 특허 3건을 출원했으며 현재 미국·일본 등에 국제 특허 출원을 진행 중에 있다. 이와 관련된 6편의 논문은 소재분야 저명 학술지인 ‘Journal of Materials Research’ 등 국내외 유명 학술지에 게재됐다.

한편 이번 연구에 참여한 ‘윈엔윈테크놀로지’측은 올 하반기 상용화를 목표로 생산설비 투자를 추진하고 있다.

이영표기자 tomcat@seoul.co.kr
2006-06-23 22면
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