【워싱턴=김재영 특파원】 한·미 양국은 22일 특허상표등 산업재산권에 관한 불필요한 마찰을 예방하기 위해 「산업재산권 실무협력협의회」를 신설하기로 합의했다.

미국을 방문중인 정해주 특허청장은 이날 브루스 레만 미 특허청장과 회담을 갖고 산업재산권 보호를 둘러싼 두 나라간 통상마찰을 줄이기 위해 이같은 기구를 만들기로 의견을 모았다.