삼성전자는 내년도 시설 및 연구개발 분야에 금년보다 30%가 많은 3조원을 투자한다.

시설 투자에는 16메가 D램 생산라인 증설 등 반도체와 LCD 양산 설비 등 신규 사업에 1조5천억원을 투자하는 것을 비롯,해외 복합화 단지 건설 등 해외투자 3천억원,무공해 공장,환경투자 3천억원 등 2조3천억원을 투자할 계획이다.