[도쿄 연합] 캐논,니콘 등 일본 반도체 관련 10개사가 차세대 반도체 개발에 협력키로 합의했다고 지지(時事)통신이 22일 보도했다.
참가 기업은 캐논, 니콘, 히타치 제작소, 도시바, NEC, 미쓰비시 전기, 후지쓰, 소니 등이 포함돼 있다.
일본 반도체 10사개는 이날 협력의 모체가 되는 '극 단자외선 노광시스템 기술개발 기구'의 설립 총회를 연 뒤 다음달 정식 발족시킬 방침이다.
지지통신은 또 이들 기업은 경제산업성의 후원 아래 회로선 폭이 50나노미터(10억분의 1m) 이하 반도체 신기술을 공동으로 개발할 계획이라고 덧붙였다.
50나노미터 이하 반도체 공정 기술은 향후 수년 이내에 세계 반도체업계의 주류를 형성할 것으로 예상되고 있으며 세계 최대 프로세서 업체인 미국의 인텔이나 유럽 업체들도 이미 연구를 시작한 것으로 알려졌다.
참가 기업은 캐논, 니콘, 히타치 제작소, 도시바, NEC, 미쓰비시 전기, 후지쓰, 소니 등이 포함돼 있다.
일본 반도체 10사개는 이날 협력의 모체가 되는 '극 단자외선 노광시스템 기술개발 기구'의 설립 총회를 연 뒤 다음달 정식 발족시킬 방침이다.
지지통신은 또 이들 기업은 경제산업성의 후원 아래 회로선 폭이 50나노미터(10억분의 1m) 이하 반도체 신기술을 공동으로 개발할 계획이라고 덧붙였다.
50나노미터 이하 반도체 공정 기술은 향후 수년 이내에 세계 반도체업계의 주류를 형성할 것으로 예상되고 있으며 세계 최대 프로세서 업체인 미국의 인텔이나 유럽 업체들도 이미 연구를 시작한 것으로 알려졌다.
2002-05-23 7면
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