◎KIST팀 개가… 차세대반도체 국산화 기여

64메가 및 2백56메가D램급 이상의 반도체 기억소자를 제작하는데 핵심적인 단결정 구리박막제조기술이 세계 최초로 개발됐다.

한국과학기술원(원장 김은영) 세라믹연구부 고석근·정형진박사팀은 자체 제작한 반도체장비를 이용,규소기판위에 단결정 구리금속박막(두께 10만분의 1∼1천분의 1㎜)의 제작에 성공했다고 발표했다.

개발에 성공한 구리박막은 보통구리처럼 전지저항이 매우 적고 규소기판과의 접착력도 우수한 것으로 나타났다.

이번 구리박막제조기술개발로 2백56메가D램같은 차세대 반도체 제조와 제작장비의 국산화에 크게 기여할 것으로 보인다.