첨단표면처리기술/이온주입장치 개발/원자력연 최병호박사팀 성공

첨단표면처리기술/이온주입장치 개발/원자력연 최병호박사팀 성공

입력 1992-05-24 00:00
수정 1992-05-24 00:00
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높은 에너지의 이온빔을 쪼여 표면의 경도나 내마모성을 높여주는 이온주입장치가 한국원자력연구소 기초연구부 최병호박사팀에 의해 개발됐다.

22일 원자력연구소의 발표에 따르면 최박사팀은 질소,산소,탄소,아르곤등의 이온빔을 이용해 드릴이나 공구,금형,베어링,정밀부품등의 표면경도나 내마모성,내부식성,조도를 2∼8배가량 향상시킬 수 있는 이온전류 50메가암페어급의 이온주입장치를 개발했다.

이온주입법이란 70년대초부터 선진국에서 연구개발이 시작된 첨단표면처리기술로 물질표면에 질소,산소,탄소등의 이온을 인위적으로 주입시켜 신물질을 창조하는 기술이다.이때 이온은 표면에서 1미크론 정도까지 침투해 재료의 조성,결합상태,결정구조를 변화시킴으로써 물질 내부나 크기 두께등의 변형없이 성질만을 변화시키게 된다.따라서 기존방법인 열처리나 도금시보다 훨씬 우수한 특성을 얻을 수 있으며 표면부착력이 전혀 문제가 되지 않는 장점을 띠게 된다.

최박사팀은 이 기술을 실제 펀치류에 응용한 결과 기존 펀치수명인 약 6천회 작업을 1만8천회까지 향상시킬 수 있었으며 전자회로 기판의 구멍을 뚫는 드릴에 질소이온을 투입한 결과 그 수명이 약 3배 가량 늘어난 것을 확인할 수 있었다고 밝혔다.

최박사는 현재 이 기술을 미래상공(주)와 함께 장치생산 및 이온주입처리 서비스용역을 실용화할 수 있도록 산업화에도 성공했다고 밝히고 현재 국내 금형 시장규모가 연간 1조원대,공구시장 규모가 5천억원대에 이르고 있는 만큼 앞으로 응용범위도 점차 확대될 전망이라고 말했다.

1992-05-24 9면
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